Volfram (vi) kloridje anorganski spoj sastavljen od elemenata volframa i klora, s kemijskom formulom WCL ₆. Pojavljuje se kao tamnoplavi ili plavo ljubičasti fini kristalni prah i lako je topiv u ugljikovim disulfidu i organskim otapalima poput etera, etanola, benzena i ugljičnog tetraklorida. Osjetljiv je na vlagu i lako se razgrađuje vrućom vodom. Kada se zagrijava, oksidirat će ga kisik u zraku, stvarajući volfram oksiklorid (WOCL ₄, WO ₂ CL ₂) ili volfram oksid. Volfram heksaklorid koji sadrži volfram oksiklorid vrlo je osjetljiv na raspadanje vodene pare. U uvjetima visoke temperature može se smanjiti vodikovim plinom kako bi se taložilo volfram u prahu. Može se koristiti za taloženje pare metala volfram za poboljšanje tvrdoće i otpornost na habanje površine materijala. U industriji elektronike važna je sirovina za proizvodnju jednostruke kristalne volframove žice. Također se može koristiti za oblikovanje vodljivog sloja na površini stakla kako bi se poboljšala njegova vodljivost. Ima dobre katalitičke performanse i može se koristiti kao katalizator za olefinsku polimerizaciju za promicanje reakcija organske sinteze. U kemijskoj industriji koristi se za pročišćavanje volframa i sintezu organskih spojeva za poboljšanje kvalitete proizvoda i učinkovitosti reakcije. Također se široko koristi u industrijama kao što su poljoprivreda, kemijski inženjering, kataliza nafte i pametno staklo.
Dodatne informacije o kemijskom spoju:
|
Kemijska formula |
CL6W |
|
Točna masa |
393.76 |
|
Molekularna masa |
396.54 |
|
m/z |
395.76(100.0%),397.76(92.8%),393.76(86.5%),397.76 (79.9%),399.76(74.1%),395.76(69.1%),393.76(52.1%),395.77(48.4%), 394.76 (46.7%), 391.76 (45.1%), 396.76 (37.3%), 399.76 (34.1%), 401.76 (31.6%), 397.75 (29.4%), 392.76 (24.4%), 398.75 (15.9%), 401.75 (8.2%), 403.76 (7.6%), 399.75 (7.1%), 400.75 (3.8%), 403.75 (1.0%) |
|
Elementarna analiza |
CL, 53,64; W, 46.36 |
|
Talište |
275 stupnjeva (lit.) |
|
Točka ključanja |
347 stupnjeva (lit.) |
|
Gustoća |
3,52 g/ml pri 25 stupnjeva (lit.) |
|
|
 |
Volfram (vi) klorid, s kemijskom formulom WCL ₆, važan je anorganski spoj. Igra važnu ulogu u različitim područjima kao što su kemijski inženjering, znanost o materijalima i elektronička industrija zbog svojih jedinstvenih kemijskih svojstava i širokog spektra primjene. Slijede njegove uporabe:
Primjena u području kemijskog inženjerstva
Može se koristiti kao reagens za sudjelovanje u raznim organskim reakcijama, poput halogeniranih reakcija, reakcija dodavanja itd. U reakcijama halogeniranja, volfram heksahlorid može proći supstitucijske reakcije s atomima vodika u organskim spojevima kako bi formirali halogenirane spojeve. Ova reakcija ima široku primjenu u organskoj sintezi i može se koristiti za pripremu spojeva poput halogeniranih ugljikovodika i halogeniranih alkohola. Osim toga, reakcije, volfram heksachlorid može proći dodavanje reakcija s nezasićenim spojevima poput olefina i alkina za proizvodnju proizvoda dodavanja. Ova je reakcija također od velikog značaja u organskoj sintezi i može se koristiti za pripremu spojeva poput alkohola, etera, ketona itd. Također može poslužiti kao katalizator za promicanje različitih organskih reakcija. Kao što je ranije spomenuto, volfram -heksachrid pokazuje izvrsne katalitičke performanse u polimerizaciji olefina, reakcije esterifikacije, reakcije izomerizacije i reakcije oksidacije. Podešavanjem reakcijskih uvjeta i doze katalizatora može se kontrolirati stupanj reakcije i selektivnosti proizvoda, što rezultira organskim spojevima s različitim svojstvima. Također djeluje kao ligand za stvaranje metalnih organskih spojeva s metalnim ionima.
Uloga u anorganskoj sintezi
Volfram heksaklorid može se koristiti kao sirovina ili intermedijar za sudjelovanje u raznim anorganskim reakcijama. To je jedna od važnih sirovina za pripremu drugih volframa. Kroz kemijske reakcije, volfram -heksaklorid može se pretvoriti u spojeve kao što su volfram oksid, volfram karbid i volfram nitrid. Ovi spojevi imaju široku primjenu u područjima kao što su znanost o materijalima i industrija elektronike. Na primjer, volfram oksid se može koristiti za pripremu fotokatalitičkih materijala, senzora plina itd.; Volfram karbid može se koristiti za pripremu alata za rezanje tvrdog legura, kalupa itd. Također može sudjelovati u raznim anorganskim reakcijama kao intermedijar. Na primjer, u pripremi određenih složenih anorganskih spojeva, volfram -heksaklorid može se najprije reagirati s drugim spojevima kako bi se formirali intermedijari, a zatim se ciljni proizvod može dobiti daljnjim reakcijama. Ova je metoda od velikog značaja u anorganskoj sintezi i može se koristiti za pripremu anorganskih materijala sa specifičnim strukturama i svojstvima.
Taloženje pare uobičajena je tehnika modifikacije površine materijala koja može tvoriti gustu premaz na površini supstrata. Volfram heksaklorid jedna je od važnih sirovina za pripremu volframovih premaza metodom taloženja pare. Korištenjem metoda kao što su taloženje kemijskog pare (CVD) ili fizičko taloženje pare (PVD), volfram heksaklorid se može razgraditi u metal volframa, a na površini supstrata može se formirati gusta premaza volframa. Ovaj premaz ima visoku tvrdoću, visoku otpornost na habanje i dobru vodljivost, a široko se koristi u poljima kao što su alat za rezanje, kalupe i elektroničke komponente. Jednostruka kristalna volfram je važan elektronički materijal s visokom točkom taljenja, visokim otporom i dobrom toplinskom stabilnošću. Volfram heksaklorid jedna je od važnih sirovina za proizvodnju jednostruke kristalne volfram.
Primjena u pripremi materijala i površinskom tretmanu
Volfram heksaklorid može se pretvoriti u jednostalnu volframinu žicom metodama kao što su taloženje kemijskog pare ili fizičko taloženje pare. Ova jednostruka kristalna volframova žica ima širok raspon primjena u poljima kao što su emisija elektrona i vrući izvori elektrona. Također se može koristiti za oblikovanje vodljivog sloja na površini stakla. Korištenjem metoda kao što su kemijsko taloženje pare ili fizičko taloženje pare, volfram heksahlorid može se odložiti na površinu stakla kako bi se tvorio gusti film volfram. Ovaj vodljivi sloj ima visoku prozirnost, nisku otpornost i dobro adheziju, a široko se koristi u poljima kao što su dodirni zasloni i solarne ćelije. Osim toga, volframički heksakloridni provodljivi sloj također se može koristiti za pripremu novih materijala kao što je Smart Glass, postizanje automatskog podešavanja staklene propusnosti.
Primjena u području elektroničke industrije
U elektroničkoj industriji volfram se široko koristi u proizvodnji različitih elektroničkih komponenti zbog visoke točke taljenja, visoke tvrdoće, dobre vodljivosti i toplinske stabilnosti.Volfram (vi) klorid, kao važna sirovina za pripremu volframovih premaza, može tvoriti guste volfram prevlake na površini supstrata metodama kao što su taloženje kemijskog pare (CVD) ili fizičko taloženje pare (PVD). Ovaj premaz volfram ima visoku tvrdoću, visoku otpornost na habanje i dobru vodljivost, što može značajno poboljšati performanse i životni vijek elektroničkih komponenti. Na primjer, u proizvodnji poluvodičkih uređaja, volfram -heksaklorid može se koristiti za pripremu slojeva difuzijskih barijera. Sloj difuzijske barijere ključni je sloj koji sprječava difuziranje atoma nečistoće na površini poluvodičkih čipova i ima značajan utjecaj na performanse i pouzdanost uređaja. Kroz kemijsko taloženje pare, volfram heksaklorid može se raspasti u metalnom volfram i formirati gusti sloj volframa na površini poluvodičkih čipsa, učinkovito sprječavajući difuziju atoma nečistoće.
Primjena u proizvodnji mikroelektronskih uređaja
U proizvodnji integriranog kruga, metalni međusobno povezivanje su ključne komponente koje povezuju različite elektroničke komponente. Volfram heksahlorid može se koristiti kao jedna od sirovina za pripremu metalnih međusobnog povezivanja, formirajući gusti sloj metala volfram na površini čipa metodama kao što je taloženje kemijskog para. Ovaj metalni sloj volframa ima dobru vodljivost i toplinsku stabilnost, što može zadovoljiti potražnju metalnih međusobnih metala u integriranim krugovima. U proizvodnji integriranog kruga, kontaktne rupe i kroz rupe su ključni kanali za povezivanje elektroničkih komponenti na različitim razinama. Volfram heksaklorid može se koristiti kao jedna od sirovina za punjenje kontaktnih rupa i kroz rupe, formirajući gusti sloj metala volfram u rupama kroz metode kao što je taloženje kemijskog para. Ovaj metalni sloj volframa ima dobro punjenje i vodljivost, što može značajno poboljšati performanse i pouzdanost integriranih krugova.
U elektroničkoj industriji provodljivi tretman staklene površine jedan je od ključnih koraka za postizanje dobrog kontakta između stakla i elektroničkih komponenti. Volfram heksaklorid može se koristiti kao jedna od sirovina za provodljiva sredstva za obradu, formirajući gusti sloj metala volfram na površini stakla pomoću metoda kao što je taloženje kemijske pare. Ovaj metalni sloj volframa ima dobru vodljivost i adheziju, što može postići dobar kontakt između stakla i elektroničkih komponenti te poboljšati performanse i pouzdanost elektroničkih komponenti. Volfram Hexachloride također igra važnu ulogu u procesu pakiranja i međusobnog povezivanja mikroelektronskih uređaja. Na primjer, u ambalaži s okretnim čipom, volfram -heksaklorid može se koristiti kao jedna od sirovina za vezanje materijala, tvoreći gusti sloj metala volfram između čipa i supstrata metodama poput kemijskog taloženja pare. Ovaj metalni sloj volframa ima dobru vodljivost i toplinsku stabilnost, što može postići dobru povezanost između čipova i supstrata te poboljšati performanse i pouzdanost pakiranih uređaja.
Istraživanje u poljima aplikacija u nastajanju
Uz brzi razvoj fleksibilnih elektroničkih uređaja, potražnja za visokim performansama i elektroničkim materijalima visoke stabilnosti raste iz dana u dan.Volfram (vi) klorid, kao elektronički materijal s izvrsnim električnim svojstvima i toplinskom stabilnošću, pokazao je široke izglede za primjenu fleksibilnih elektroničkih uređaja. Na primjer, volfram -heksaklorid može se koristiti za pripremu ključnih komponenti kao što su fleksibilne elektrode i fleksibilni međusobno povezivanje, pružajući snažnu potporu razvoju fleksibilnih elektroničkih uređaja. Trodimenzionalna tehnologija integracije jedno je od važnih sredstava za poboljšanje stupnja integracije i performanse integriranih krugova. Volfram hexachloride, kao elektronički materijal s izvrsnim popunjavanjem i vodljivošću, igra važnu ulogu u implementaciji trodimenzionalne tehnologije integracije. Na primjer, volfram heksaklorid može se koristiti za popunjavanje rupa i kontaktnih rupa u trodimenzionalnim integriranim strukturama, postižući dobru povezanost između elektroničkih komponenti na različitim razinama i poboljšanje performansi i pouzdanosti integriranih krugova.
Popularni tagovi: Volfram (vi) klorid cas 13283-01-7, dobavljači, proizvođači, tvornica, veleprodaja, kupovina, cijena, skupno, na prodaju